鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統
儀器采用徑向觀測與軸向觀測設計,適應亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,使用CaF2棱鏡,國產ICP光譜儀廠家,提高光路傳輸效率。
優化的光學設計,采用非球面光學元件,改善成像質量,提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術,縮短光室充氣時間,提高紫外光譜靈敏度及穩定性,開機即可測量。 包圍式立體控溫系統,保障光學系統長期穩定無漂移。
光源
固態射頻發生器,穩定,體積小巧,匹配速度快
冷錐消除尾焰技術,地降低自吸效應和電離干擾,從而獲得更寬的動態線性范圍和更 低的背景,保證準確的測量結果。 具有綠色節能待機模式,待機時降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運行,節約使用成本。
簡潔的炬管安裝定位設計,快速定位,的位置重現。 實時監控儀器運行參數,CAN工業現場總線,保障通訊可靠。
進樣系統
簡潔的炬管安裝設計,自動定位炬管位置,的位置重現。
ICP光譜儀使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,保障測試性能長期穩定。 多通道12滾輪蠕動泵,提升樣品導入穩定性。
檢測器
大面積背照式CCD檢測器,全譜段響應,高紫外量化效率,抗飽和溢出,具有極寬的動態范
圍和極快的信號處理速度。 一次曝光,完成全譜光譜信號的采集讀取,從而獲得更為快速、準確的分析結果。
ICP光譜儀具有同類產品中靶面尺寸,像素,單像素面積24μm X 24μm,三級半導體制冷,制冷溫 度 低,具有更低的噪聲和更好的穩定性。
軟件系統
人性化的界面設計,流暢易懂,簡便易用,針對分析應用優化的軟件系統,無須復雜的方法開發, 即可快速開展分析操作。
豐富的譜線庫,智能提示潛在干擾元素,幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設置,直觀的測試結果顯示。
安全防護
電磁屏蔽,減少電磁輻射 連鎖門保護,避免用戶誤操作可能帶來的風險 防紫外觀測窗
鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀
1. 光路形式:Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀
2. 光室恒溫:(30±0.2)℃
3. 光柵類型:離子刻蝕全息平面光柵
4. 分辨率:不大于0.007nm
5. 刻線密度:3600g/mm
6. 高頻發生器震蕩頻率:40.68MHz 功率穩定度:0.1%(長期25℃典型值)
7. 震蕩類型:自激式
8. 進樣方式:蠕動泵進樣
配有多種霧室(旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室)
9. 霧1化器:同心霧化1器
10. 重復性:RSD ≤1.0%
11. 穩定性:RSD ≤2.0%(2小時)
12. 冷卻氣:10-20L/min
13. 輔助氣:0-1.5 L/min
14. 載氣:0.4-1L/min
15. 尺寸:1550mm×759mm×1340mm(長×寬×高)
16. 重量:240公斤
ICP光譜儀
目前ICP光譜儀主要分為多道型、單道掃描型以及全譜直讀型,其中多道型和單道掃描型代表的是80年代的技術水平,它們以光電倍增管為檢測器,技術上非常成熟,但也較落后,其中多道型已幾乎退出歷史舞臺,單道掃描型以其合適的價格和靈活方便仍占有一定的市場份額。全譜直讀型儀器代表了當今ICP的新技術水準,它以CID或CCD(SCD)半導體器件為檢測器;中階梯光柵結合棱鏡(或平面光柵)構成二維、高分辯率、高能量色散系統,能同時獲得各元素譜線的信息。此類型儀器經近十年的不斷完善和發展,目前已成為ICP光譜儀的主流。
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