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微弧氧化膜層的性能能夠達到何種程度？
一般來講，微弧氧化膜層是瞬間高溫下生成的內部致密的陶瓷層，膜層均具有良好的膜基結合力、硬度、耐磨耐腐蝕特性、高的絕緣性及耐高溫氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工藝下制備的膜層性能也有差異。如，一般情況下，鋁表面制備的膜層比鎂合金表面制備的膜層具有更高的硬度和耐磨性，因為從生成物來看，氧化鋁硬度及耐磨性均高于氧化鎂，鋁表面氧化膜硬度高可以達到HV3000。但是通常單純考慮這種極限性能并不可取，如單純提高膜層的硬度，微弧氧化技術，可能需提高膜層厚度，降低膜基結合力，對膜層整體性能不利。
因此，一般很少單獨強調某種性能。只是如果有特殊要求，可以提出，微弧氧化技術廠家，整體加以調制，在滿足特殊需求的基礎上使膜層整體具有良好性能。如，鈦合金微弧氧化技術，某鎂合金需要耐蝕，可以根據需求對膜層厚度、溶液成分等進行調制，滿足耐蝕400小時、600小時等特殊需求。
微弧氧化技術的發展
微弧氧化技術是北京師范大學核科學與技術學院（低能核物理研究所）（北京市輻射中心）1992年起開發的科研課題，先后得到國家教委、國家九五863高技術研究發展計劃、國家自然科學基jin的大力支持。1997-1998年完成國家“863”計劃項目“等離子體微弧氧化表面改性技術”，等離子微弧氧化技術，1997年12月“鋁合金微弧氧化技術”通過國家教委和863組的聯合鑒定。2002年微弧氧化設備獲得國家重點新產品證書，2004年微弧氧化雙極性大功率脈沖電源獲得發明。
微弧氧化特點
（1）電解液呈弱堿性，對環境沒有污染；
（2）工藝簡單，對工件的預處理只要求表面去油去污，不需去除表面的自然氧化層，適用于大規模自動化產生；
（3）微弧氧化可以一次完成，也可以分幾次完成，而陽極氧化一旦中斷就必須重新開始；
（4）不需要真空或低溫條件。絕緣等特性。在航空航天、機械、電子、裝飾等領域具有廣闊的應用前景。
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